Seto 1.67 Ống kính quang điện Shmc

1) Lớp phủ spin là gì?

Lớp phủ spin là một quy trình được sử dụng để gửi các màng mỏng đồng nhất vào chất nền phẳng. Thông thường, một lượng nhỏ vật liệu phủ được áp dụng trên trung tâm của chất nền, được quay ở tốc độ thấp hoặc không quay. Chất nền sau đó được quay với tốc độ lên tới 10.000 vòng / phút để trải đều vật liệu phủ bằng lực ly tâm. Một máy được sử dụng để phủ spin được gọi là máy chủ spin, hoặc đơn giản là spinner.
Xoay được tiếp tục trong khi chất lỏng quay ra khỏi các cạnh của chất nền, cho đến khi đạt được độ dày mong muốn của màng. Dung môi ứng dụng thường dễ bay hơi và đồng thời bay hơi. Tốc độ góc quay càng cao, bộ phim càng mỏng. Độ dày của màng cũng phụ thuộc vào độ nhớt và nồng độ của dung dịch, và dung môi. Phân tích lý thuyết tiên phong của lớp phủ spin được thực hiện bởi Emslie và cộng sự, và đã được mở rộng bởi nhiều tác giả tiếp theo (bao gồm Wilson và cộng sự, người đã nghiên cứu tốc độ lan truyền trong lớp phủ spin; và danglad-Flores et al. Mô tả phổ quát để dự đoán độ dày màng lắng đọng).
Lớp phủ spin được sử dụng rộng rãi trong việc chế tạo các lớp oxit chức năng trên thủy tinh hoặc chất nền đơn lẻ sử dụng tiền chất sol-gel, trong đó nó có thể được sử dụng để tạo ra các màng mỏng đồng nhất với độ dày nano. [6] Nó được sử dụng mạnh mẽ trong quang khắc, để lắng đọng các lớp quang hóa dày khoảng 1 micromet. Photoresist thường được quay ở 20 đến 80 vòng quay mỗi giây trong 30 đến 60 giây. Nó cũng được sử dụng rộng rãi để chế tạo các cấu trúc quang phẳng được làm từ các polyme.
Một lợi thế để spin lớp màng mỏng là tính đồng nhất của độ dày phim. Do tự cung cấp, độ dày không thay đổi hơn 1%. Tuy nhiên, lớp phủ lớp phủ spin của các polyme và chất quang học có thể dẫn đến các hạt cạnh tương đối lớn có kế hoạch hóa có giới hạn vật lý.